Produkt beskrivelse
Termisk oxid silicium wafers er silicium wafers, der har et lag af silicium dioxid (SiO2) dannet på dem gennem en proces kaldet termisk oxidation. Denne proces involverer at udsætte waferen for varme og oxidationsmidler, såsom brint, oxygen eller halogengas, ved høje temperaturer. Laget kan være vådt eller tørt og kan variere i tykkelse fra nogle få ångstrøm til 20 mikron.
Termiske oxidskiver har mange anvendelser, herunder:
- Dielektrisk materiale
- MEMS (mikro-elektromekaniske systemer) enheder
- Barriere på tykfilm silicium på isolatorskiver
- Kemisk mekanisk planarisering (CMP)
- Forsker i overfladeegenskaber af siliciumsubstrater
- MOS og andre aktive enhedsfremstillingsprocesser
- Fremstilling af integrerede kredsløb (IC'er) og mikrochips
- Maskering under dopingprocesser
Vi kan levere diameter 2"-12", oxidfilmtykkelse 30-1000nm, kan behandle ultratykke specifikationer 1-20um, ensartethed<3%, provide detailed film thickness uniformity report, Oxidation method according to the thickness of the choice of wet oxygen or pure kilooxygen (LPCVD) and TEOS (PECVD), whether the leakage or uniformity, cleanliness and other process indicators are in the forefront of the international level, to meet the special needs of high-end customers.
Produkt billede
SiBranch tilbyder enkeltsidede og dobbeltsidede termisk oxiderede siliciumwafers for at imødekomme en bred vifte af anvendelsesbehov.
Vores standardprodukt er en dobbeltsidet oxideret wafer med et ensartet siliciumdioxidlag på begge sider, dannet ved kontrolleret termisk oxidation af siliciumsubstratet. Men vi tilbyder også enkeltsidede oxiderede wafere tilpasset dine specifikke krav. Disse wafers er oprindeligt dobbeltsidede oxiderede wafers, og derefter fjernes et lag af siliciumdioxidlaget selektivt ved anvendelse af et bufret flussyreætsemiddel.
Denne fleksible fremgangsmåde til fremstilling af oxidwafer gør det muligt for os at levere små partier af enkeltsidede og dobbeltsidede oxidwafers. Uanset om du har brug for wafers til procesudvikling, materialeanalyse eller højvolumen produktion, kan vi levere den nøjagtige oxid wafer-konfiguration, der passer til din applikation.
Vores kvalitet
Siliciumdioxidskiver spiller en vigtig rolle som et essentielt dielektrisk materiale af høj kvalitet i moderne halvledere. SiO2's uovertrufne isolerende egenskaber muliggør komplekse enhedsgeometrier og forbedret ydeevne sammenlignet med halvledermetaller. Oxidlaget letter også selektive ætsnings- og maskeringsoperationer under nanoskala-fremstilling.
Ud over halvledere kan oxidskiver integreres i mikroelektromekaniske systemer (MEMS) som fugtbarrierer, strukturelle komponenter eller passiveringslag. Kvaliteten af vores oxidwafere sikrer, at MEMS-ingeniører kan stole på den mekaniske modstandsdygtighed af siliciumdioxid til at skabe komplekse mekaniske strukturer og fluidiske systemer.
Til enhver applikation, der kræver pålidelige siliciumdioxidskiver, stol på SiBranchs ekspertteknik og strenge kvalitetssikring. Kontakt vores kundeserviceteam i dag for at diskutere, hvordan vores enkelt- og dobbeltsidede oxidskiver kan understøtte din næste innovation.
Hvorfor vælge os
Vores produkter kommer udelukkende fra verdens fem største producenter og førende indenlandske fabrikker. Understøttet af højt kvalificerede nationale og internationale tekniske teams og strenge kvalitetskontrolforanstaltninger.
Vores mål er at give kunderne omfattende en-til-en-support, hvilket sikrer glatte kommunikationskanaler, der er professionelle, rettidige og effektive. Vi tilbyder en lav minimumsordremængde og garanterer hurtig levering inden for 24 timer.
Fabriksudstilling
Vores store lager består af 1000+ produkter, hvilket sikrer, at kunderne kan afgive ordrer for så lidt som ét styk. Vores selvejede udstyr til terninger og bagslibning og fulde samarbejde i den globale industrielle kæde gør os i stand til hurtig forsendelse for at sikre kundens one-stop-tilfredshed og bekvemmelighed.
Vores certifikat
Vores virksomhed sætter en ære i de forskellige certificeringer, vi har opnået, herunder vores patentcertifikat, ISO9001-certifikat og National High-Tech Enterprise-certifikat. Disse certificeringer repræsenterer vores dedikation til innovation, kvalitetsstyring og forpligtelse til ekspertise.
Populære tags: termisk oxid silicium wafer, Kina termisk oxid silicium wafer producenter, leverandører, fabrik
