Beskrivelse

Tekniske parametre

Produkt beskrivelse

Parametre for poleret siliciumwafer 1
Diameter	1 tomme-12 tomme
Tykkelse	280um, 300um, 380um, 400um, 500um, 525um, 675um og tilpas tyk
Type	P-type og N-type
Doteret	Udopet, Doteret Bor, Doteret Fosfor eller Arsen
Orientering	<100>, <111>, <110>
Resistivitet	1-10ohm.cm, 0.001-0.005ohm.cm, >1000ohm.cm and >20000 ohm.cm
Polere	DSP
Metode	CZ og FZ
Oxidlag	100, 200, 300nm+/-10 %
Parametre for poleret siliciumwafer 2
Diameter	50,8 mm	76,2 mm	100 mm	125 mm	150 mm	200 mm
Diameter tolerance	±0,4 mm	±0,5 mm	±0,5 mm	±0,3 mm	±0,3 mm	±0,2 mm
Tykkelse	280um	381um	525um	625um	675um	725 um
Tyk tolerance	±20um	±20um	±20um	±15um	±15um	±15um
TTV	Mindre end eller lig med 8um	Mindre end eller lig med 10um	Mindre end eller lig med 10um	Mindre end eller lig med 10um	Mindre end eller lig med 10um	Mindre end eller lig med 10um
Bøjning	Mindre end eller lig med 25um	Mindre end eller lig med 30um	Mindre end eller lig med 40um	Mindre end eller lig med 40um	Mindre end eller lig med 50um	Mindre end eller lig med 50um
TIR	Mindre end eller lig med 5um	Mindre end eller lig med 6um	Mindre end eller lig med 6um	Mindre end eller lig med 5um	Mindre end eller lig med 5um	tilpasse
Længde af primær lejlighed	16.0±2.0mm	22,5±2,5 mm	32,5±2,5 mm	42,5±2,5 mm	57,5±2,5 mm	tilpasse
Længde af sekundær Flad	8.0±2.0mm	11,5±1,5 mm	18.0±2.0mm	27,5±2,5 mm	37,5±2,5 mm	--
Bemærk: Hvis der er særlige parameterkrav, kan tilpasses

Dobbeltsidet polerede siliciumwafers er et banebrydende produkt, der revolutionerer halvlederindustrien. Disse wafers gennemgår en intensiv poleringsproces, som sikrer, at de har en glat, skinnende og pletter-fri overflade på begge sider.

Fordelene ved at bruge dobbeltsidet polerede siliciumwafere er uendelige. For det første giver de fremragende elektrisk ydeevne, hvilket gør dem ideelle til brug i højtydende elektronik såsom mikroprocessorer og hukommelsesenheder. For det andet giver deres højkvalitetsoverflade mulighed for mere nøjagtig og præcis mønstre af halvlederlagene. Dette udmønter sig igen i øget udbytte og effektivitet i produktionsprocessen.

Ydermere giver den dobbelte poleringsproces waferne større mekanisk styrke og holdbarhed, hvilket betyder, at de er i stand til at modstå strabadserne i fremstillingsprocessen uden skader. Dette udmønter sig igen i mindre nedetid og færre tab på grund af waferbrud.

Sammenfattende, hvis du ønsker at tage din halvlederfremstilling til det næste niveau, så er brug af dobbeltsidet polerede siliciumwafere vejen at gå. Fordelene er talrige, og kvaliteten og pålideligheden af disse wafere er uovertruffen. Så hvorfor ikke drage fordel af denne banebrydende teknologi og forbedre dine produktionskapaciteter i dag?

Produktbillede

Hvorfor vælge os

Vores produkter kommer udelukkende fra verdens fem største producenter og førende indenlandske fabrikker. Understøttet af højt kvalificerede nationale og internationale tekniske teams og strenge kvalitetskontrolforanstaltninger.

Vores mål er at give kunderne omfattende en-til-en-support, hvilket sikrer glatte kommunikationskanaler, der er professionelle, rettidige og effektive. Vi tilbyder en lav minimumsordremængde og garanterer hurtig levering inden for 24 timer.

Fabriksudstilling

Vores store lager består af 1000+ produkter, hvilket sikrer, at kunderne kan afgive ordrer for så lidt som ét styk. Vores selvejede udstyr til terninger og bagslibning og fulde samarbejde i den globale industrielle kæde gør os i stand til hurtig forsendelse for at sikre kundens one-stop-tilfredshed og bekvemmelighed.

Vores certifikat

Vores virksomhed sætter en ære i de forskellige certificeringer, vi har opnået, herunder vores patentcertifikat, ISO9001-certifikat og National High-Tech Enterprise-certifikat. Disse certificeringer repræsenterer vores dedikation til innovation, kvalitetsstyring og forpligtelse til ekspertise.

Populære tags: dobbeltside polerede silicium wafers, Kina dobbeltside polerede silicium wafers producenter, leverandører, fabrik